場發射掃描/穿透式電子顯微鏡 (FE-S/TEM)

Festem

儀器中文名稱：場發射掃描/穿透式電子顯微鏡

儀器英文名稱：Field Emission Scanning/ Transmission Electron Microscope

儀器英文簡稱：FES/TEM

儀器設備說明：

(1)加速電壓：200 KV

(2)TEM分辨率：0.12nm

(3)STEM HAADF分辨率：0.16 nm

(4)Super-X EDS 系統: 對稱設計的4個SDD，無窗式

(5)快速 EDS 收集成像: 像素停留時間10 µs

(6)EDX 立体角：0.9 srad

(7)camara length：12–5700 mm

(8)双傾斜試片座的最大傾斜角度：±30˚

(9)STEM Detector：BF、DF2、DF4、HAADF

服務項目：

針對不同類型材料，提供高解析度的影像觀察及微區繞射分析，也可進行樣品不同維度的影像及成分分析，並獲得樣品升溫反應資訊。

微結構觀察：明視野、暗視野影像分析；高解析影像分析。
電子繞射分析。
不同維度之EDS定性及半定量成分分析。
EDS搭配STEM的BF, DF2, DF4, HAADF偵測器同步獲取影像和光譜訊號可進行光譜原素全畫面(full frame)、選區(selected area)和線掃描(line scan)等掃描分析模式。
NBD strain分析。
3D電子束體層攝影術影像及成分分析(S/TEM and EDS)。
樣品升溫反應資訊。

樣本製備要求：

為減少儀器不必要的污染，本中心對試片種類及試片製備上有以下規定，未符合規定者，本單位有權拒絕受理。

第一次預約者，請於預約前，先聯絡儀器負責技術人員，確實討論後，詳細填寫【EM011800】(場發射掃描/穿透式電子顯微鏡 Talos FES/TEM)儀器預約相關注意事項與樣品檢測申請表，並回傳再預約，違反者取消當日預約。
必需已於校內【EM0000017504】(場發射槍穿透式電子顯微鏡FE-TEM)分析確認過樣品狀況。
粉末樣品(奈米材料): 粉末樣品或奈米材料滴在鍍碳銅網上後，請務必於80℃以上之溫度，烘乾24小時以上，並於乾燥箱或真空狀態下保存。若試片放入機台後，機台真空度變差(真空讀值高於標準值Accelerator= 1，Column = 1，Detection Unit < 25)，則實驗中止，樣品立即退出。
具磁性的樣品禁用本機台。磁性判斷及樣品替代製備方式請洽技術員。
若有需要使用NanoEx-i/v 加熱載座者，需提供高於100度的分析溫度之TGA與DSC數據，以便觀察樣品升溫分析時的變化。

收費標準：(依使用狀況調整)

開放服務對象：校內、校外學術單位及產業界

聯絡資訊：

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