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場發射穿透式電子顯微鏡 (FE-TEM)

FETTEM

儀器中文名稱：場發射穿透式電子顯微鏡

儀器英文名稱：Field Emission Gun Transmission Electron Microscope

儀器英文簡稱：FE-TEM

儀器設備說明：

  • 購置時間：95年7月至96年3月
  • 開放服務：97年7月
  • 放置地點：工程一館142實驗室(E1-142 Lab)
  • 廠牌型號：FEI Tecnai™ G2 F-20 S-TWIN
  • 規格：
    (1)加速電壓： 200 KV
    (2)TEM分辨率：
    高解析影像條件 A. Point Resolution：≦0.23nm (200 kV)
                             B. Lattice Resolution：≦0.1nm 
                             成份與結構分析條件 3 nm
    (3) 能量分散光譜儀 (EDS)：
         (i)機型: EDAX
         (ii)元素偵測範圍: B ~ U (原子序 5~92)
         (    iii)解析度: 133 eV
    (4) 雙傾斜試片座的最大傾斜角度：α±30˚、β±20˚

服務項目：

針對不同類型材料，提供高解析度的影像觀察及微區繞射分析，也可進行樣品成分分析。

  • 微結構觀察: 明視野、暗視野影像分析；高解析影像分析。
  • 電子繞射分析。
  • 元素定點定性及半定量成分分析。
  • EDS搭配STEM的HAADF偵測器同步獲取影像和光譜訊號可進行光譜元素全畫面(full frame)、選區(selected area)和線掃描(line scan)等掃描分析模式；本機台目前此分析功能，偶會受環境因素影響，使電子束不穩而有無法正常分析的情形，因非屬常態，故本情形僅提供擬預約使用時之參考，仍須視使用當日電子束穩定情況而定。

樣本製備要求：

      為減少儀器不必要的污染，本中心對試片種類及試片製備上有以下規定，未符合規定者，本單位有權拒絕受理。

  • 第一次預約者，請於預約前，先聯絡儀器負責技術人員，確實討論後，詳細填寫【EM0000017504】(場發射槍穿透式電子顯微鏡FE-TEM)儀器預約相關注意事項並詳細敘述代測樣品資料表，且回傳再預約，違反者取消當日預約。
  • 粉末樣品(奈米材料): 粉末樣品或奈米材料滴在鍍碳銅網上後，請務必於80℃以上之溫度，烘乾24小時以上，並於乾燥箱或真空狀態下保存。若試片放入機台後，機台真空度變差，則實驗中止，樣品立即退出。
  • 具磁性的樣品禁用本機台。磁性判斷請洽技術員、樣品替代製備方式(粉末樣品適用冷凍切薄機(Ultramicrotome)而塊材與薄膜樣品適用場發射雙束型聚焦離子束顯微鏡(FIB))。
  • 高分子樣品裂解溫度需達350℃以上，需附上樣品之TGA分析數據。若試片放入機台後，機台真空度變差(真空讀值高於標準值Gun = 1， Column = 6，Camera < 25)，則實驗中止，樣品立即退出。

收費標準：(依使用狀況調整)

開放服務對象:校內、校外學術單位及產業界。

聯絡資訊：

 

 

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